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검색어 : 통합검색[윤대원]

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  • 101
    초고속 광통신용 5Gbps 급 Ti:LiNbO<tex> $_3$</tex> Mach-Zehnder interferometric 광변조기 개발
    김성구; 윤형도; 윤대원; 유용택; 전자부품종합기술연구소; 전자부품종합기술연구소; 전자부품종합기술연구소; 전남대학교 전자공학과; (한국전기전자재료학회 1997년도 추계학술대회 논문집, v.1997, 1997, pp.477-479)
  • 102
    1.55<tex> ${ mu}{ textrm}{m}$</tex>에서 최적화된 유전체 다층막의 미러 특성
    박태성; 정홍배; 김명진; 윤대원; 광운대학교 전자재료공학과; 광운대학교 전자재료공학과; 전자부품종합기술연구소; 전자부품종합기술연구소; (한국전기전자재료학회 1995년도 추계학술대회 논문집, v.1995, 1995, pp.183-186)
  • 103
    광섬유 Fabry-Perot 필터의 제작 및 특성
    김명진; 윤대원; 김윤중; 전자부품 종합기술연구소 부품연구 1팀; 전자부품 종합기술연구소 부품연구 1팀; 서울시립대학교 공 과대학 전자 공학과; (한국광학회 1996년도 Advance Program of 13th optics andquantum Electronics conference, 1996제13 회 광학 및 양자전자 학술 발표회 논문 요약집, v.1996, 1996, pp.63-63)
  • 104
    Fabry-Perot 필터를 위한 유전체 다층막의 미러 특성
    김윤중; 김명진; 윤대원; 서울시립대학교 공과대학 전자 공학과; 전자부품종합기술연구소 부품 연구 1팀; 전자부품종합기술 연구소 부품 연구 1팀; (한국광학회 1996년도 Advance Program of 13th optics andquantum Electronics conference, 1996제13 회 광학 및 양자전자 학술 발표회 논문 요약집, v.1996, 1996, pp.64-64)
  • 105
    초고속 광통신용 10Gbps급 LiNbO<tex> $_3$</tex> 광강도변초기 제작 및 특성
    김성구; 윤형도; 윤대원; 유용택; 전자부품종합 기술연구소; 전자부품종합 기술연구소; 전자부품종합 기술연구소; 전남대학교 전자공학과; (한국전기전자재료학회 1998년도 춘계학술대회 논문집, v.1998, 1998, pp.95-96)
  • 106
    Mach-Zehnder LiNbO<tex> $_3$</tex>:Ti 광도파로 제작 및 특성
    김성구; 윤형도; 윤대원; 한상필; 허현; 유용택; 전자부품종합기술연구소; 전자부품종합기술연구소; 전자부품종합기술연구소; 서울시립대학교 공대 전자공학과; 전북대학교 공대 전기공학과; 전남대학교 공대 전자공학과; (한국전기전자재료학회 1997년도 춘계학술대회 논문집, v.1997, 1997, pp.16-19)
  • 107
    10Gbps 급 LiNbO<tex> $_3$</tex> 광변조기의 FEM 해석 및 제작
    김성구; 윤형도; 윤대원; 허현; 유용택; 전자부품종합기술연구소; 전자부품종합기술연구소; 전자부품종합기술연구소; 전북대학교 공대 전기공학과; 전남대학교 공대 전자공학과; (한국전기전자재료학회 1997년도 춘계학술대회 논문집, v.1997, 1997, pp.12-15)
  • 108
    공동주택 발코니 확장에 따른 단열 성능 향상 및 결로방지를 위한 외피디자인
    윤대원; 유선용; 이충근; 지석원; 송두삼; 김태연; 이승복; 연세대학교 건축공학과; 연세대학교 건축공학과; 두산건설(주) 기술연구소; 두산건설(주) 기술연구소; 성균관대학교 건축공학과; 연세대학교 건축공학과; 연세대학교 건축공학과; (대한설비공학회 2007년도 하계학술발표대회 논문집, v.2007, 2007, pp.30-30)
  • 109
    Centroids and some characterizations of parallelograms
    김동수; Kwang Seuk Lee; Kyung Bum Lee; Yoon Il Lee; Seongjin Son; Jeong Ki Yang; 윤대원; ; (대한수학회논문집, v.31, 2016, pp.637-645)
  • 110
    Sol-Gel 법으로 제조된 후막 PZT의 두께, 전극형상 및 분극 공정에 따른 <tex> $e_{31,f}$</tex> 특성
    박준식; 양성준; 박광범; 윤대원; 박효덕; 김승현; 강성군; 최태훈; 이낙규; 나경환; 전자부품연구원 나노메카트로닉스센터; 전자부품연구원 나노메카트로닉스센터; 전자부품연구원 나노메카트로닉스센터; 전자부품연구원 나노메카트로닉스센터; 전자부품연구원 나노메카트로닉스센터; 이노스텍 (주) 기술연구소; 한양대학교 재료공학과; 한국생산기술연구원 마이크로성형팀; 한국생산기술연구원 마이크로성형팀; 한국생산기술연구원 마이크로성형팀

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